Plasma Spray

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Plasma Spray

Plasma Spray

Ar, He, N2 등의 가스를 아크로 플라즈마화 하고, 이것을 Nozzle로 배출시켜 초고온, 고속의 플라즈마 제트를 열원으로 하는 피막형성 기술이다.
플라즈마 발생장치는 Cu 로 된 원형의 양극과 W로 된 음극으로 구성되며, 발생장치에서 전기 아크 방전이 작동가스를 플라즈마 제트를 형성하여 탄화물, Ceramic, Cermet, 금속간 화합물 등의 고융점 분말재료를 용융한 후 피용사체에 고속으로 분사하여 피막을 형성하는 용사법 이다.
  • 특징

    ▪ 고속의 플라즈마 제트를 이용하므로 결합력이 우수한 피막을 형성

    ▪ 고융점의 Ceramic 용사에 적합

    ▪ 분말의 입도 범위가 넓어 사용 용도에 따른 최적의 재료 선택 가능

    ▪ 혼합 피막법, 미끄럼 방지 피막법, Graded 피막법 등 다양한 종류의 피막 형성 가능

    ▪ 청정한 활성열원 사용

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